清華大學與德國團隊研究新型粒子加速器光源　未來或應用於光刻機

清華大學媒體《清華新聞網》近日宣布，該校工程物理系教授唐傳祥研究組，與來自德國亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心（HZB）以及德國聯邦物理技術研究院（PTB）的合作團隊，在《自然》（Nature）雜誌上發表了題為「穩態微聚束原理的實驗演示」的研究論文，報告一種新型粒子加速器光源「穩態微聚束」（Steady-state microbunching，簡稱SSMB）的首個原理驗證實驗。

內地傳媒指出，光源是光刻機的關鍵技術之一，上述研究與極紫外（EUV）光刻機光源密切相關。不過有光刻領域研究人員受訪就指，上述研究只是實驗室首次驗證，距離實際應用還很遠。

據介紹，在晶片製造的產業鏈中，光刻機是必不可少的精密設備，是集成電路晶片製造中最復雜和關鍵的工藝步驟。上述研究的成果是可基於SSMB的原理以獲得高功率、高重頻、窄帶寬的相干輻射，波長可覆蓋從太赫茲到極紫外（EUV）波段。

唐傳祥受訪時亦稱，國際社會高度關注清華大學SSMB研究的重要原因，是SSMB光源的潛在應用之一是作為未來EUV光刻機的光源，大功率EUV光源的突破對於EUV光刻進一步的應用和發展至關重要。「基於SSMB的EUV光源有望實現大的平均功率，並具備向更短波長擴展的潛力，為大功率EUV光源的突破提供全新的解決思路。」

事實上，大功率的EUV光源是EUV光刻機的核心基礎，目前行業巨頭荷蘭ASML公司所采用的是高能脈衝激光轟擊液態錫靶，形成等離子體然後產生波長13.5nm的EUV光源，功率約250瓦。但隨著晶片工藝節點的不斷縮小，預計對EUV光源功率的要求將不斷提升，達到千瓦量級。

（綜合報道）