【中美貿易戰】國產光刻機被譽打破「晶片荒」　內媒批：驢吹成馬

自中美貿易戰爆發以來，晶片生產技術一直為各界焦點，例如內地電訊龍頭中興因一度遭美國「封殺」，幾乎陷於沒頂之災。其後中國領導人不斷呼籲科研人才開發「核心技術」，反覆強調「大國重器」不能假手於人。11月29日，中科院研製的「超分辨光刻裝備」通過驗收，光刻分辨力達到22納米。部份內媒以〈國產光刻機偉大突破，國產晶片白菜化在即〉和〈厲害了我的國，新式光刻機將打破「晶片荒」〉之類為題，慶祝中國不再受制於人。然而內地《科技日報》12月2日刊文指出，這類報道只是一廂情願。

報道指出，就晶片製作而言，光刻機作用在於「印刷」電路，就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部份。自光刻技術面世半個多世紀以來，為了節省能源和所需矽料，晶片愈做愈小，致使投影刻劃難度愈來愈高，因而催生頂尖光刻機利用波長13.5納米的極紫外光源，以刻劃10納米以下的線條。

旨在用便宜光源實現較高分辨率

要製造穩定而大功率的「極紫外光源」，報道指每個光源需耗資3000萬元人民幣。至於頂尖「極紫外光刻機」，更有一部賣一億美金之譽，相關技術目前由荷蘭ASML公司獨家壟斷。

有見及此，中科院研製光刻機旨在利用「表面等離子體」光刻法，在通行納米光學技術外另闢蹊徑，「用便宜光源實現較高的分辨率」。報道引述科學家楊勇解說箇中原理：「拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸，界面上有一些亂蹦的電子；光投影在金屬上，這些電子就有序地震盪，產生波長幾十納米的電磁波，可用來光刻。」

電磁波很弱、加工精度不足

不過這種這種電磁波很弱，需要「光刻膠」材料得湊近了，才能刻出來，且加工精度及不上市面「極紫外光刻機」，無法刻出幾十納米級的晶片。光電所專家便稱，用於晶片需要攻克一系列技術難題，距離還很遙遠。

報道更批評：「有些傳播者為吸引眼球、賺錢，最愛製造『自嗨文』和『嚇尿體』。聽到國產科技成就先往大裡吹，驢吹成馬，馬吹成駱駝，好賣個駱駝價。」