中國在集成電路領域專利激增 電路布圖設計登記申請增46%
撰文：劉暢
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中國國家知識產權局在周二（9日）舉辦第三季度例行新聞發佈會，集中發佈專利、商標、地理標誌、集成電路布圖設計的半年統計數據，以及這些數據體現出的中國知識產權事業發展趨勢和進展情況。
數據顯示，2019年上半年，中國主要知識產權指標符合事業發展預期，其中，集成電路布圖設計方面的數據尤為亮眼：2019年上半年，共收到集成電路布圖設計登記申請2904件，同比增長45.7%；發證2487件，同比增長52.0%。
內地集成電路發展長期受制於美國
《參考消息》在昨日（10日）報道稱，集成電路布圖設計方面能夠取得較好成績，除了中國自身努力外，還要感謝美國關鍵時刻的「助推」。
集成電路是芯片的核心。中國集成電路的發展長期受制於美國。
中國在高科技研發領域取得長足進步的原因之一，正是在海外、尤其是在美國留學的大量高端人才回國，這一點在半導體和顯示器產業方面體現得尤其明顯。
中國留學生赴美簽證年期遭縮短
《彭博》在4月30日的報道中提到，中國已經為研究人員提供了一些關鍵優勢，包括大量的可用數據，研究人員可以利用這些工具開發超越美國的技術。
報道稱，美國大學加強了對中國研究計劃的審查，甚至限制種種合作；中國科研人員參加會議和交流的簽證被推遲；研究機械人或高級製造業等課題的中國研究生的簽證從5年縮短為1年。