中國去年搶購光刻機達300台　半導體設備國產化升至47%

2024年剛拉開序幕，在美國出手填補出口管制漏洞壓力下，荷蘭政府吊銷了2款艾斯摩爾（ASML）曝光機出貨中國的許可證。由於中國半導體廠商大多趕在去年下半年新規生效前囤積工具，預計中國晶圓製造的產能尚有2-3年的緩衝期。

台媒《自由時報》報道， 根據市場調查數據，中國在2023年採購ASML光刻機數量已超過了300台，是2022年的3倍，去年中國佔ASML全球的營收超過20%。其中，去年第1季中國約貢獻ASML 8%營收，第2季約為24%、第3季進一步攀升至46%，累計去年前3季中國向ASML採購了約53億歐元的光刻機。

時至第4季，去年10月份中國又向ASML進口了21台曝光機、價值為6.725億美元。11月再夠購得16台、價值為7.627億美元。

報道指出，根據初步核算，2023年中國向ASML購買曝光機金額在80億美元至100億美元之間，較上一年21.5億歐元約成長3.2倍，2022年採購曝光機數量為100台，2023年則是3倍成長。

中國去年對於ASML的購買金額，約佔中國半導體設備購買總額的30%。

面對美國嚴厲管制，中國政府積極扶植半導體產業，力拼半導體設備國產化。根據中國招標數據，當地主要晶圓廠的生產線中，合計得標達875台設備，當中又以刻蝕機、測試機、氣液系統設備居多，中國國產半導體設備的得標比例約47% ，與2022年30%相較有明顯提高。

報道指出，雖然中國的國產半導體設備得標比例達47%，仍以中、低端的相關設備為主，高端領域如光刻機設備，還是要依賴進口。